Fabrication of sub-10 nm silicon carbon nitride resonators using a hydrogen silsesquioxane mask patterned by electron beam lithography - 科研通

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标题	Fabrication of sub-10 nm silicon carbon nitride resonators using a hydrogen silsesquioxane mask patterned by electron beam lithography
网址	https://doi.org/10.1016/j.mee.2010.11.045
DOI	10.1016/j.mee.2010.11.045 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：M.A. Mohammad; S.K. Dew; S. Evoy; M. Stepanova 出版日期：2011
求助人	柏不斜在 2026-05-31 23:17:40 发布自北京，悬赏 10 积分
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