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标题
Reliability Enhancement of 14 nm HPC ASIC Using Al2O3 Thin Film Coated with Room-Temperature Atomic Layer Deposition
室温原子层沉积Al2O3薄膜增强14 nm HPC ASIC可靠性
相关领域
材料科学 原子层沉积 可靠性（半导体） 沉积（地质） 图层（电子） 涂层 压力（语言学） 光电子学 节点（物理） 薄膜 复合材料 纳米技术 结构工程 生物 物理 工程类 哲学 古生物学 功率（物理） 量子力学 语言学 沉积物
网址
https://www.mdpi.com/2079-6412/12/9/1308/pdf?version=1662545...
AI链接 mdpi.com mdpi.com doaj.orgdoi.org
DOI
10.3390/coatings12091308 doi
其它 期刊：Coatings
作者：Po-Chou Chen; Shu‐Mei Chang; Hao‐Chung Kuo; Fu-Cheng Chang; Li Yuan; et al
出版日期：2022-09-07
求助人
cc 在 2025-08-27 19:47:48 发布自中国，悬赏 10 积分
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