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  Research Update: Atmospheric pressure spatial atomic layer deposition of ZnO thin films: Reactors, doping, and devices 相关领域
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期刊：APL Materials 作者：Robert L. Z. Hoye; David Muñoz‐Rojas; Shelby F. Nelson; A. Illiberi; Paul Poodt; et al 出版日期：2015-04-01 |
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