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Thin resist process having high dry-etching resistance in 0.13-μm KrF lithography 相关领域
抵抗
干法蚀刻
光刻胶
材料科学
蚀刻(微加工)
反应离子刻蚀
光刻
平版印刷术
纳米技术
光电子学
复合材料
图层(电子)
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期刊:Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE 作者:Minoru Watanabe; Suguru Sasaki; Sachiko Yabe; Takashi Taguchi 出版日期:2001-08-24 |
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