| 标题 |
Understanding and measuring EUV mask 3D effects |
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| DOI |
10.1117/1.jmm.23.4.041407
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| 其它 |
期刊:Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者:Stuart Sherwin; Matt Hettermann; Dave Houser; Patrick Naulleau 出版日期:2024-11-08 |
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(2025-6-4)