Review of essential use of fluorochemicals in lithographic patterning and semiconductor processing

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标题	Review of essential use of fluorochemicals in lithographic patterning and semiconductor processing
网址	https://doi.org/10.1117/1.jmm.21.1.010901
DOI	10.1117/1.jmm.21.1.010901 doi
其它	期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Christopher K. Ober; Florian Käfer; Jingyuan Deng 出版日期：2022-03-31
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