Resolving In Situ Exposure Dynamics in a Chemically Amplified EUV Photoresist Using Table-Top EUV Photoemission Spectroscopy

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标题	Resolving In Situ Exposure Dynamics in a Chemically Amplified EUV Photoresist Using Table-Top EUV Photoemission Spectroscopy
网址	http://dx.doi.org/10.1021/acsami.5c09589
DOI	10.1021/acsami.5c09589 doi
其它	期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Dhirendra P. Singh; Laura Galleni; Faegheh S. Sajjadian; Ivan Pollentier; Fabian Holzmeier; et al 出版日期：2025-09-05
求助人	QQ 在 2026-09-17 19:42:19 发布自北京，悬赏 10 积分
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American Psychiatric Association Publishing

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