标题 |
![]() 抗场损伤的超薄氧化硅(4.2 nm)-多晶硅结构
相关领域
绝缘体(电)
材料科学
氧化物
硅
半导体
光电子学
绝缘体上的硅
不对称
基质(水族馆)
电压降
凝聚态物理
电压
极性(国际关系)
电气工程
化学
物理
冶金
地质学
工程类
海洋学
细胞
量子力学
生物化学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Semiconductors 作者:D. A. Belorusov; E. I. Goldman; В. Г. Нарышкина; Г. В. Чучева 出版日期:2021-01-01 |
求助人 |
yuhuan
在
2025-08-29 22:00:46 发布,悬赏 10 积分
|
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|