| 标题 |
 Effect of atomic-layer-deposition sequence on the composition of indium-zinc-tin oxide thin films and its effect on thin-film transistor characteristics 原子层沉积顺序对铟锌锡氧化物薄膜成分的影响及其对薄膜晶体管特性的影响
相关领域
原子层沉积
薄膜
图层（电子）
铟
材料科学
薄膜晶体管
锌
氧化铟锡
锡
沉积（地质）
氧化物
冶金
纳米技术
沉积物
生物
古生物学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
Nole
cdercder
dde
OK
故意的以亦
xing_xing
Kao
DOC_XIONG
超帅的笑蓝
aaaa
馨馨的科科
Juvenilesy
lailai
Dean
长安
共产主义战士
Judles
学术文献互助
junhuihe
皖公网安备34019202002308
