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[高分]
  A Study on Specific Contact Resistance Reduction of Ni Germanide/P-type Ge Using Terbium Interlayer 铽中间层降低锗化镍/P型锗的比接触电阻的研究
相关领域
锗
铽
材料科学
还原（数学）
接触电阻
冶金
锗
纳米技术
光电子学
图层（电子）
硅
几何学
数学
发光
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期刊：Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers 作者：Shin GeonHo; Meng Li; Jeong‐Chan Lee; Hyung-Sop Song; So-Yeong Kim; et al 出版日期：2018-01-01 |
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