A lab-scale EUV high-intensity exposure setup for small-spot exposures and angular-resolved photoelectron spectroscopy

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标题	A lab-scale EUV high-intensity exposure setup for small-spot exposures and angular-resolved photoelectron spectroscopy
网址	http://dx.doi.org/10.1117/12.3119885
DOI	10.1117/12.3119885 doi
其它	期刊：Photomask Japan 2026: XXXII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology 作者：Linus Nagel; Adelind Elschani; Sarah Schreyer; Sven Glabisch; Sascha Brose; et al 出版日期：2026-09-24
求助人	aa3294 在 2026-11-03 12:50:50 发布自北京，悬赏 20 积分
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