Evolution of interfacial defects by H/He co-implantation in 300 mm SOI layer transfer process

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标题	Evolution of interfacial defects by H/He co-implantation in 300 mm SOI layer transfer process
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.mssp.2026.110567
DOI	10.1016/j.mssp.2026.110567 doi
求助人	邱清在 2026-03-30 20:20:58 发布自四川，悬赏 10 积分
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