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标题
Optimizing photoresist linewidth roughness in ion beam shaping: A systematic study of stage angular configuration
网址
DOI
10.1116/6.0005220 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B
作者:Xiaojian Wu; Shuo Dong; Kaidong Xu; Shiwei Zhuang
出版日期:2026-04-01
求助人
笑点低芹菜 在 2026-05-11 22:59:49 发布自上海,悬赏 10 积分
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  • 3个月前

    笑点低芹菜 笑点低芹菜 Lv3 求助人 发起了本次求助

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