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  Research progress of ceria abrasives in STI CMP: optimization and application 相关领域
化学机械平面化
磨料
抛光
浅沟隔离
材料科学
硅
氮化硅
研磨
二氧化硅
纳米技术
工艺工程
过程（计算）
表面粗糙度
选择性
碳化硅
冶金
表面完整性
纳米
表面改性
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| 其它 |
期刊：The International Journal of Advanced Manufacturing Technology 作者：Xinyu Zhao; Xinyu Han; Baimei Tan; Jiadong Zhao; Wenyue Qi; et al 出版日期：2025-09-23 |
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(2025-6-4)
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