化学机械平面化
磨料
抛光
浅沟隔离
材料科学
硅
氮化硅
研磨
二氧化硅
纳米技术
工艺工程
过程(计算)
表面粗糙度
选择性
碳化硅
冶金
表面完整性
纳米
表面改性
作者
Xinyu Zhao,Xinyu Han,Baimei Tan,Jiadong Zhao,Wenyue Qi,Jiaji Geng,Yunhui Shi,Yanyan Huang
标识
DOI:10.1007/s00170-025-16607-3
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