Ion motion above a biased wafer in a plasma etching reactor

已完结

文献求助详情

标题	Ion motion above a biased wafer in a plasma etching reactor 等离子体刻蚀反应器中偏压晶片上方的离子运动相关领域物理等离子体薄脆饼离子蚀刻（微加工）原子物理学等离子体刻蚀反应离子刻蚀光电子学核物理学纳米技术量子力学材料科学图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1063/5.0206860
DOI	10.1063/5.0206860 doi
其它	期刊：Physics of Plasmas 作者：Yuchen Qian; Walter Gekelman; Patrick Pribyl; Tugba Piskin; Alex Paterson 出版日期：2024-06-01
求助人	含糊的雨安在 2025-07-05 18:10:53 发布自上海，悬赏 10 积分
下载	该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。
	温馨提示：该文献已被科研通学术中心收录，前往查看科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。

上个求助

下个求助

提交工单

该求助已完结，感谢关注

如需该文献，请重新发布求助，前往发布

学术共进，科研互通

请遵守相关知识产权规定，勿将文件分享给他人，仅可用于个人研究学习

我的文献求助列表浏览历史

一分钟了解求助规则 | 捐赠本站 | 历史今天

更新

2025年影响因子查询已上线 (2025-6-18)

更新

PDF的下载单位、IP信息已删除 (2025-6-4)

科研通是完全免费的文献互助平台，具备全网最快的应助速度，最高的求助完成率。对每一个文献求助，科研通都将尽心尽力，给求助人一个满意的交代。

实时播报: keyana25上传了应助文件

1秒前; 雨夜聆风发布了新的文献求助10

2秒前; John完成签到，获得积分10

2秒前; 科研通AI6上传了应助文件

3秒前; 李健的小迷弟的应助被7799采纳，获得10

4秒前; 粉面菜蛋完成签到，获得积分10

5秒前; SciGPT上传了应助文件

8秒前; 万能图书馆的应助被PatrickWu采纳，获得10

11秒前; 发酱完成签到，获得积分10

11秒前; Hello上传了应助文件

12秒前; Chris完成签到，获得积分10

13秒前; 木木完成签到，获得积分20

13秒前; 嘉嘉发布了新的文献求助10

14秒前; YAN发布了新的文献求助10

16秒前; 英吉利25发布了新的文献求助10

17秒前; 在水一方的应助被fengge采纳，获得10

17秒前; young上传了应助文件

17秒前; catbird完成签到，获得积分20

18秒前; 123完成签到，获得积分10

20秒前; ymmmaomao23完成签到，获得积分10

21秒前; General完成签到，获得积分10

22秒前; 科研通AI2S上传了应助文件

22秒前; 大模型的应助被yhh采纳，获得10

22秒前; 懦弱的不乐完成签到，获得积分10

22秒前; 午餐肉完成签到，获得积分10

23秒前; 在水一方上传了应助文件

25秒前; 田様上传了应助文件

27秒前; beifa发布了新的文献求助10

28秒前; 俊秀的映之上传了应助文件

29秒前; 彭于晏上传了应助文件

29秒前; 传奇3上传了应助文件

29秒前; fengge发布了新的文献求助10

29秒前; 颗粒完成签到，获得积分10

30秒前; jmy完成签到，获得积分10

30秒前; 浮游上传了应助文件

30秒前; ddddd完成签到，获得积分20

31秒前; guoguo发布了新的文献求助20

33秒前; 眼睛大的小熊猫完成签到，获得积分10

33秒前; ma完成签到，获得积分10

34秒前; 科研通AI2S的应助被beifa采纳，获得10

34秒前