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标题
Anisotropy in the wet-etching of semiconductors
半导体湿法刻蚀中的各向异性
相关领域
材料科学 蚀刻（微加工） 各向异性 半导体 各向同性腐蚀 原电池 硅 电化学 干法蚀刻 反应离子刻蚀 纳米技术 光电子学 化学工程 冶金 光学 物理化学 化学 电极 物理 工程类 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1016/j.cossms.2006.04.003
AI链接 uu.nl uu.nldoi.org
DOI
10.1016/j.cossms.2006.04.003 doi
其它 期刊：Current Opinion in Solid State and Materials Science
作者：John J. Kelly; Harold Philipsen
出版日期：2005-02-01
求助人
w_ 在 2025-09-15 10:34:31 发布自广东，悬赏 10 积分
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