| 标题 |
Anisotropy in the wet-etching of semiconductors 半导体湿法刻蚀中的各向异性
相关领域
材料科学
蚀刻(微加工)
各向异性
半导体
各向同性腐蚀
原电池
硅
电化学
干法蚀刻
反应离子刻蚀
纳米技术
光电子学
化学工程
冶金
光学
物理化学
化学
电极
工程类
物理
图层(电子)
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Current Opinion in Solid State and Materials Science 作者:John J. Kelly; Harold Philipsen 出版日期:2005-02-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)