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标题
Recent Advances in Plasma Etching for Micro and Nano Fabrications of Silicon-based Materials: A Review
等离子体刻蚀在硅基材料微纳制备中的研究进展
相关领域
材料科学 等离子体刻蚀 纳米- 纳米技术 蚀刻(微加工) 等离子体 工程物理 光电子学 复合材料 工程类 核物理学 图层(电子) 物理
网址
DOI
10.1039/d4tc00612g doi
求助人
pikachu 在 2025-09-05 16:22:57 发布自浙江,悬赏 10 积分
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