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Suppression of SiO x interfacial layer growth for the ferroelectric nondoped HfO 2 formation utilizing ECR-plasma sputtering |
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:S. Ohmi; Y. Shimada; S. -F. Liang; K. Yamamoto; Y. Shimazaki; et al 出版日期:2026-08-21 |
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(2025-6-4)