| 标题 |
 Voltage waveform control of an embedded focus ring electrode to improve edge plasma uniformity and ion incidence angle in capacitively coupled RF discharges 相关领域
薄脆饼
波形
电极
离子
等离子体
光电子学
等离子体刻蚀
材料科学
蚀刻（微加工）
电压
GSM演进的增强数据速率
容性耦合等离子体
偏压
稠密等离子体焦点
物理
光学
垂直的
信号边缘
失真（音乐）
半导体器件制造
反应离子刻蚀
电容
德拜鞘层
半导体
原子物理学
等离子体诊断
光学（聚焦）
各向同性腐蚀
直流偏压
入射角（光学）
高压
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Physics of Plasmas 作者：Seoi Choi; Hae June Lee 出版日期：2026-07-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人或该文件上传人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
无极微光
吃葡萄不吐葡萄皮
极限001
彭于彦祖
v0id
04d
lx
YY
秋风
guyuming
Criminology34
aaaa
Maestro_S
cdercder
七听
369ninja
weixia
null
风吹麦浪
阿申爱乐
皖公网安备34019202002308
