| 标题 |
 Enhancing plasma uniformity in SiH4/NH3 capacitively coupled plasmas via dielectric structure adjustment positioning adjacent to the power electrode 相关领域
多物理
材料科学
等离子体
电介质
容性耦合等离子体
电极
光电子学
电场
氮化硅
电子
等离子体处理
温度电子
等离子体驱动器
电子密度
等离子体参数
无线电频率
等离子体诊断
功率密度
GSM演进的增强数据速率
氮化物
旋转对称性
体积流量
宽禁带半导体
原子层沉积
沉积（地质）
硅
流量（数学）
原子物理学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of vacuum science and technology 作者：Sen Wang; Quan‐Zhi Zhang; Maksudbek Yusupov; You‐Nian Wang 出版日期：2025-11-04 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
v0id
yjh123
cdercder
22336
didiwang
ale
愉快的真
Kao
丰富语蕊
lx
大力的冬萱
不是詹詹
Oracle
渡人舟
dde
MozzieMiao
行走的荷尔蒙
arniu2008
Moonpie
殷勤的紫槐
皖公网安备34019202002308
