Ion implantation of advanced silicon devices: Past, present and future

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标题	Ion implantation of advanced silicon devices: Past, present and future
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.mssp.2016.10.045
DOI	10.1016/j.mssp.2016.10.045 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Michael I. Current 出版日期：2017-05-01
求助人	高大的友易在 2026-08-10 16:34:18 发布自广东，悬赏 10 积分
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