Pad roughness evolution during break-in and its abrasion due to the pad-wafer contact in oxide CMP - 科研通

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标题	Pad roughness evolution during break-in and its abrasion due to the pad-wafer contact in oxide CMP
网址	https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016793171...
DOI	10.1016/j.mee.2013.04.027 doi
其它	期刊：Microelectronic Engineering 作者：Boris Vasilev; Sascha Bott; Roland Rzehak; Johann W. Bartha 出版日期：2013-05-09
求助人	加油在 2026-06-22 22:25:01 发布自广东，悬赏 10 积分
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