| 标题 |
[求助补充材料]
 Reticle heating overlay impact of mask substrate thermal properties on high power EUV systems |
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| DOI |
10.1117/12.3075741
doi
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| 其它 |
期刊：Photomask Japan 作者：Rick Jansen; Laura Huddleston; Emilio Bajonero Canonico; J. Beckers; A. V. van Tol; et al 出版日期：2025-07-21 |
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(2025-6-4)
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