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Inhibitor-free area selective atomic layer deposition of SiO2 thin films by in situ surface cleaning using isotropic SiO2 selective removal |
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期刊:Journal of the Korean Physical Society 作者:Min Su Kim; Hyun Gu Kim; So Myeong Shin; Byungchul Cho; Juhwan Park; et al 出版日期:2025-09-26 |
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(2025-6-4)