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Grain boundary diffusion of Si in polycrystalline copper film
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网址
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.111260
DOI
10.1016/j.vacuum.2022.111260 doi
其它 期刊：Vacuum
作者：Eszter Bodnár; Viktor Takáts; Tamás Fodor; J. Hakl; Yuri Kaganovskii; et al
出版日期：2022-06-11
求助人
99 在 2026-01-09 18:20:06 发布自上海，悬赏 10 积分
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