| 标题 |
Interplay of annealing temperature and doping in hole selective rear contacts based on silicon-rich silicon-carbide thin films 富硅碳化硅薄膜空穴选择性后接触中退火温度和掺杂的相互作用
相关领域
钝化
兴奋剂
材料科学
硅
薄脆饼
退火(玻璃)
碳化硅
光电子学
掺杂剂
机车
非晶硅
纳米晶硅
晶体硅
纳米技术
氮化硅
复合材料
图层(电子)
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Solar Energy Materials and Solar Cells 作者:Gizem Nogay; Josua Stückelberger; Philippe Wyss; Esteban Rucavado; Christophe Allebé; et al 出版日期:2017-06-27 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)