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 Low temperature plasma deposited SiO2/organosilicon stacked film for transparent gate dielectric of InGaZnO thin film transistor 用于InGaZnO薄膜晶体管透明栅介质的低温等离子体沉积SiO2/有机硅叠层膜
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期刊：Thin Solid Films 作者：Chong Peng; Houyun Qin; Yiming Liu; Yiyang Chang; Kaiyuan Liu; et al 出版日期：2023-12-14 |
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