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标题
Effect of Formation Conditions for Hafnium Oxide Films on Structural and Electrophysical Properties of Heterostructures
氧化铪薄膜形成条件对异质结构结构和电物理性质的影响
相关领域
异质结 材料科学 溅射沉积 氧化物 光电子学 溅射 金属 半导体 薄膜 纳米技术 冶金
网址
DOI
10.1134/s1064226923100017 doi
其它 期刊:Journal of Communications Technology and Electronics
作者:M. S. Afanasyev; D. A. Belorusov; Д. А. Киселев; В. А. Лузанов; Г. В. Чучева
出版日期:2023-10-01
求助人
大安吉 在 2025-08-28 17:59:32 发布,悬赏 10 积分
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