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 Selective molecular gas phase etching in layered high aspect-ratio nanostructures for semiconductor processing. I. Modeling framework and simulation 用于半导体加工的层状高纵横比纳米结构中的选择性分子气相蚀刻。I.建模框架和仿真
相关领域
材料科学
纳米结构
蚀刻（微加工）
半导体
纳米技术
气相
半导体纳米结构
光电子学
化学
物理化学
图层（电子）
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Zach Zajo; David S. L. Mui; Ji Zhu; Mark Kawaguchi; Eric S. G. Shaqfeh 出版日期：2025-01-01 |
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