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标题
Enhanced Ferroelectricity and Reliability in Hf0.5Zr0.5O2 Thin Film via Synergistic Stress-Interface Effects from a W Top Electrode
相关领域
薄膜 可靠性(半导体) 材料科学 铁电性 电极 光电子学 电介质 电子工程 固体物理学 纳米技术
网址
DOI
10.1007/s11664-026-12815-z doi
求助人
LBJ 在 2026-07-12 15:48:08 发布自广西,悬赏 10 积分
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