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 Investigation of abnormally high growth-per-cycle in atomic layer deposition of Al2O3 using trimethylaluminum and water 相关领域
原子层沉积
化学
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期刊：Applied Surface Science 作者：So‐Yeon Ham; Zhenyu Jin; Seokhee Shin; Minseo Kim; Mingyu Seo; et al 出版日期：2021-09-14 |
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