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标题
Talbot photolithography optimization with engineered hybrid metal-dielectric mask: High-contrast and highly-uniform Talbot stripes
相关领域
塔尔博特效应 光学 光刻 衍射 平版印刷术 材料科学 波长 电介质 振幅 不透明度 菲涅耳衍射 光电子学 物理
网址
https://doi.org/10.1016/j.optlastec.2021.107776
AI链接 arxiv.org arxiv.org datacite.orgdoi.org
DOI
10.1016/j.optlastec.2021.107776 doi
其它 期刊：Optics & Laser Technology
作者：Yu. É. Geints; Igor V. Minin; Oleg V. Minin
出版日期：2021-12-15
求助人
SciGPT 在 2025-10-27 11:24:55 发布自广西，悬赏 10 积分
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