| 标题 |
 (Invited) Influence of Ga 2 O 3 /Al 2 O 3 Interface on Characteristics of Ga 2 O 3 Capacitors Ga2O3/Al2O3界面对Ga2O3电容器特性的影响
相关领域
材料科学
退火（玻璃）
电容器
制作
电介质
光电子学
原子层沉积
图层（电子）
电场
沉积（地质）
分析化学（期刊）
电阻率和电导率
接口（物质）
带隙
宽禁带半导体
镓
化学浴沉积
表层
电子工程
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：ECS Meeting Abstracts 作者：Toshihide Nabatame; Tomomi Sawada; Yoshihiro Irokawa; Manami Miyamoto; Hiromi Miura; et al 出版日期：2025-11-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
东方元语
wwww
cdercder
OK
Nole
Kao
颂歌998
aajhajkahna
学术文献互助
xing_xing
Maestro_S
馆长
qfyyyyyyy
dde
zy
11111111
科研小能手
初景
吃饱喝足
arniu2008
皖公网安备34019202002308
