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  Maintaining a Stable Etch Selectivity between Silicon Nitride and Silicon Dioxide in a Hot Phosphoric Acid Bath 相关领域
磷酸
选择性
薄脆饼
氮化硅
二氧化硅
硅
蚀刻（微加工）
材料科学
化学工程
化学
无机化学
纳米技术
冶金
催化作用
有机化学
图层（电子）
工程类
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期刊：ECS transactions 作者：Lewis Y. Liu; Ismail Kashkoush; Gim Chen; Casey Murphy 出版日期：2007-09-28 |
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