| 标题 |
专利、报告等 Performance Evolution and Failure Mechanism of Sintered Copper Interconnects for Power Devices under Long-Term Thermal Shock 相关领域
材料科学
铜
失效机理
机制(生物学)
热冲击
热的
复合材料
功率(物理)
休克(循环)
冶金
功率半导体器件
热失控
烧结
铜合金
光电子学
触电
|
| 网址 | |
| DOI |
10.2139/ssrn.6616218
doi
提醒:求助人提供的doi与AI识别不一致
10.1016/j.ijfatigue.2026.109842
Doi
|
| 其它 |
期刊: 作者:Xingyu Zhang; Shuai Chen; Hengrui Li; Liguo Ding; Kewei Li; et al 出版日期:2026-04-21 |
| 求助人 | |
| 下载 | |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)