Heater‐Free and Substrate‐Independent Growth of Vertically Standing Graphene Using A High‐Flux Plasma‐Enhanced Chemical Vapor Deposition

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标题	Heater‐Free and Substrate‐Independent Growth of Vertically Standing Graphene Using A High‐Flux Plasma‐Enhanced Chemical Vapor Deposition
网址	https://doi.org/10.1002/admi.202000854
DOI	10.1002/admi.202000854 doi
其它	期刊：Advanced Materials Interfaces 作者：Zhiheng Wu; Yongshang Zhang; Yonglong Shen; Wei Zhang; Guosheng Shao 出版日期：2020-07-14
求助人	德容在 2026-08-10 16:18:05 发布自江苏，悬赏 10 积分
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