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标题
Mask process proximity correction for next-generation mask fabrication
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DOI
10.1116/1.1621663 doi
其它 期刊:Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena
作者:Soon Ho Kim; Sung-Woon Choi; Jung-Min Sohn; Jong Rak Park
出版日期:2003-11-01
求助人
davey 在 2026-07-01 15:59:23 发布自安徽,悬赏 10 积分
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