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标题
Fabrication of block copolymer templates by using dually responsive photoresist bottom layers
利用双响应光刻胶底层制备嵌段共聚物模板
相关领域
光刻胶 纳米孔 共聚物 材料科学 模板 图层（电子） 制作 纳米孔 纳米技术 蚀刻（微加工） 纳米结构 聚合物 双层 硅 化学工程 复合材料 膜 光电子学 化学 工程类 医学 生物化学 病理 替代医学
网址
https://doi.org/10.1016/j.reactfunctpolym.2017.07.001
DOI
10.1016/j.reactfunctpolym.2017.07.001 doi
其它 期刊：Reactive and Functional Polymers
作者：Kyoungok Jung; Chang Hong Bak; Se Jin Ku; Jin-Baek Kim
出版日期：2017-07-06
求助人
yyc 在 2025-06-28 12:00:59 发布自上海，悬赏 10 积分
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