Optimizing Cobalt Silicide Interfaces With Carbon PAI: Enhanced Thermal Stability and Reduced Specific Contact Resistivity for DRAM Applications - 科研通

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标题	Optimizing Cobalt Silicide Interfaces With Carbon PAI: Enhanced Thermal Stability and Reduced Specific Contact Resistivity for DRAM Applications 用碳PAI优化硅化钴界面：提高DRAM应用的热稳定性和降低比接触电阻率相关领域德拉姆硅化物电阻率和电导率材料科学热稳定性钴接触电阻光电子学电子工程纳米技术硅冶金电气工程化学工程工程类图层（电子）
网址	http://doi.org/10.1109/ted.2024.3430890
DOI	10.1109/ted.2024.3430890 doi
其它	期刊：IEEE Transactions on Electron Devices 作者：Yanping He; Shujuan Mao; Jing Xu; Xianglie Sun; Xu Chen; et al 出版日期：2024-08-21
求助人	lyw 在 2025-12-10 22:52:23 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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