Plasma-enhanced CVD of SiO2 at near-room temperature: process–structure–property

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标题	Plasma-enhanced CVD of SiO2 at near-room temperature: process–structure–property 近室温等离子体增强CVD SiO2的工艺-结构-性能
网址	http://dx.doi.org/10.1021/acsami.2c06145
DOI	10.1021/acsami.2c06145 doi
求助人	怕孤单的土豆在 2025-12-14 14:42:08 发布自中国，悬赏 10 积分
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