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 Polycrystalline and high purity SnO2 films by plasma-enhanced atomic layer deposition using H2O plasma at very low temperatures of 60–90 °C 相关领域
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期刊：Vacuum 作者：Jong Hyeon Won; Heenang Choi; Seong Ho Han; Bo Keun Park; Taek‐Mo Chung; et al 出版日期：2021-11-10 |
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