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 Strain accumulation and relaxation on crack formation in epitaxial AlN film on Si (111) substrate Si（111）衬底外延AlN薄膜裂纹形成的应变积累和弛豫
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期刊：Applied Physics Letters 作者：Muhammad Aqib; Sara Pouladi; Mina Moradnia; R. Kumar; Nam‐In Kim; et al 出版日期：2024-01-22 |
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