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 Inhibitor-free area-selective atomic layer deposition of SiO2 through chemoselective adsorption of an aminodisilane precursor on oxide versus nitride substrates 相关领域
原子层沉积
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期刊：Applied Surface Science 作者：Jeong‐Min Lee; Jinseon Lee; Hongjun Oh; Jiseong Kim; Bonggeun Shong; et al 出版日期：2022-03-03 |
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