| 标题 |
 Transferring resist microlenses into silicon by reactive ion etching 相关领域
抵抗
反应离子刻蚀
硅
材料科学
蚀刻（微加工）
光电子学
微透镜
光学
纳米技术
镜头（地质）
物理
图层（电子）
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| 网址 | |
| DOI |
10.1117/1.600981
doi
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| 其它 |
期刊：Optical Engineering 作者：Martin Eisner 出版日期：1996-10-01 |
| 求助人 | |
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