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 Cycloalkyl Ligand-Engineered Zirconium–Oxo Clusters for Sub-9 nm Electron Beam Lithography with Ultralow Line Edge Roughness 相关领域
化学
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期刊：Journal of the American Chemical Society 作者：M Q Zhang; Weiwei Li; Zihan Lian; Z Chen; D Wang; et al 出版日期：2026-06-18 |
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