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 Microstructural investigation of nickel silicide thin films and the silicide–silicon interface using transmission electron microscopy 硅化镍薄膜和硅化物-硅界面的透射电子显微镜研究
相关领域
材料科学
硅化物
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期刊：Micron 作者：Madhu Bhaskaran; Sharath Sriram; David R. G. Mitchell; K. T. Short; Anthony S. Holland; et al 出版日期：2008-02-21 |
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