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标题
Mechanism of Embedded Micro/Nano Channel Formation for a Negative-Tone Photoresist by Moving Mask Lithography
移动掩模光刻法在负性光刻胶中形成嵌入式微/纳米沟道的机理
相关领域
光刻胶 材料科学 平版印刷术 语调（文学） 纳米- 机制（生物学） 光电子学 纳米技术 频道（广播） 光刻 X射线光刻 抵抗 计算机科学 物理 电信 复合材料 图层（电子） 艺术 文学类 量子力学
网址
https://doi.org/10.3938/jkps.56.851
DOI
10.3938/jkps.56.851 doi
其它 期刊：Journal of the Korean Physical Society
作者：sang-kon kim; Hye-Keun Oh
出版日期：2010-03-15
求助人
科研渣渣 在 2025-10-27 09:44:17 发布自贵州，悬赏 10 积分
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