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  Comparison of distributions of etching rate and calculated plasma parameters in dual-frequency capacitively coupled plasma 双频电容耦合等离子体中刻蚀速率分布与计算参数的比较
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Shigeyuki Takagi; Kazumichi Ishii; Shih‐Nan Hsiao; Makoto Sekine 出版日期：2023-08-23 |
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