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 UV Stability of Aluminum Oxide Fabricated with Tube‐Type Plasma‐Enhanced Atomic Layer Deposition 管式等离子体增强原子层沉积法制备氧化铝的紫外稳定性
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期刊：Solar RRL 作者：Christina Hollemann; Byungsul Min; V.X. Nguyen; Thomas Pernau; Daniela Seiffert; et al 出版日期：2025-08-27 |
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